在生产半导体用的无尘室中，为了维持环境的洁净度，洁净的空气层流向着具导电性的地板表面，以向下气流的方式不断流动。此气流将透过设置于天花板，称为FFU（Fan Filter Unit）的具有风扇的滤网进行洁净。图6-11-1显示了无尘室的基本构造及空气的流动。

装载在FFU内的ULPA滤网，对于粒径在0.15 pm以上的粒子具有99.9995%以上的清除率。向下气流的流速一般来说在每秒1~2m左右，可以感受到某种程度的风。

无尘室中设有制造装置、清洗、干燥装置、搬送机、机器人、半成品的暂时保存架的储位等。

无尘室的温度为23+-3度C

无尘室的使用方法，可以大致分别为“大房间方式”及“BAY方式”两种。一般经常使用的为BAY（海湾）方式。

在大房间方式中，无尘室不作任何区隔的方式。为了提高整个大房间的洁净度，非常不经济，一般作法为在区域性进行洁净化，并且在晶圆的搬送上使用特别的机器人。大房间方式的详细说明请参见次节。

BAY方式，如图6-11-2所显示的范例之一，分别成各个制程装置群各个作业区域相对于中央走廊，配置成［字型配置方式。作业区域可分别为光蚀刻制程、成膜制程（热氧化、CVD）、蚀刻制程、离子注入制程等，视制程的不同甚至有10台以上的机器，号码并肩而列。在BAY方式中，因为同类的装置集中设置于相同的地方，一方面当某装置故障时很容易以其他装置取代，但另一方面，必须在各作业区域间不断往复来回。

在制程间的晶圆批次搬送中，远距离的情况下多使用吊挂在天花板的磁浮引擎，在近距离的情况下则多使用地面搬送车或机器人。

无尘室控制温度23+-3度C、湿度：45 +-15%的环境，并透过中央管理室进行恒常的监控。舒适的温湿度，并不是为了人类，而是为了“半导体”呢！