制程所需化学品种类可分为酸、碱、有机溶剂、有机物质及氧化物等五大类，现分述如下：

1.酸类：凡物质经解离后会产生氢离子（H⁺）者，并依其解离出氢离子之程度大小，可分为强酸如H₂SO₄，HCI、HF、HNO₃，等及弱酸如CH₃COOH、H₃PO₄等，又依其特性亦可分成无机酸如H₂SO₄及有机酸如 ACT690、EKC830等。酸类遇金属时会发生反应产生氢气，并腐蚀金属。

2.碱类：凡物质经解离后会产生氢氧离子［OH^-］者称之，有强碱如NaOH、KOH 及弱碱CH₃OH等。

3.有机溶剂类：有机溶剂是指溶剂中含有碳原子者，其特性是挥发性强，具毒性，若使用不当，将导致中毒。

4.有机物质类：此类物质分子结构内，均含有碳原子，但其挥发性程度不及有机溶剂，一般均作特殊用途而非溶剂。

5.氧化物：此类物质化学活性较不安定，易起氧化作用。

以上之各类化学品种类是为一般公司较常用者，有些公司会因本身制程因素或产品类别以及参数设定，而会选择不同种类名称或代号但功能及用途却类似之化学品使用。

在半导体制程上，目前所使用之化学品品质要求，依产品等级之升高而有较严之规范，这些规范以溶液中微尘粒子之控制和内中金属离子浓度含量为考量重点。