在半导体生产线的无尘室中，如字面所示，为一干净的空间，然而实际上有多么干净呢？视其中生产的半导体的精细化程度，而对于无尘室亦有不同洁净度的要求。

这是因为，当采用在半导体上的元件尺寸越小，则能够造成半导体不良的微粒子的尺寸也越小的缘故。

代表洁净度的“等级”标示

无尘室洁净度，依无尘室中单位体积的悬浮微粒子数区分“等级”。图6-9-1以图示显示洁净度等级。一般而言，此等级标示为无尘室完工当下的数值，并非实际产品在生产时的稼动中等级。当然，稼动的等级一定较完工当时的等级为低。

无尘室的等级标示，又以JIS规格、USA规格、ISO规格三种规格定义之。

JIS规格（日本工业规格）

一立方公尺中，粒子直径0.1μm以上的微粒子数，以10的乘幂呈现时的指数数值，来表示等级。可分成等级1~9。

USA规格（美国联邦规格）

基于英制单位（ft II英呎，1fl约750px）的情况下，以0.5 μm以上的粒径为标准，计算一立方英呎的粒径0.5Hm以上的微粒子数。另一方面，基于公制单位（公尺）的情况下，以0.5μm以上的粒径为标准，计算一立方英呎的粒径0.5μm以上的微粒子数的10的乘幂。另外，为了明确知道是以公制单位（公尺）为标准，在M之外追加等级M（X）来表示。X表示等级。

  ISO规格（国际标准化机构）作为包括日本、美国、欧洲为中心，全世界统一标准的规格。在ISO表示法中，标准粒子的粒径为0.1 μm，标准体积为一立方公尺，也就是采用与JIS同样的方式。

在JIS及IS0的等级分类表中，占有状态（使用状态）可从施工完成时间点、制造装置设置时间点、生产运作时间点，此三个选项中选取。

关于洁净度各种规格的代表等级，如图6-9-2所示。