上海集成电路研发中心有限公司 ( Shanghai Integrated Circuit Research andDevelopment Center Ltd.,ICRD）成立于 2002 年，由国家支持组建，旨在建设一个产学研合作的集成电路研发中心。中心由中国集成电路相关企业集团和高校联合投资组建而成，计划成为一个面向全行业集成电路企业、大学及研究所开放的公共研发机构。

上海集成电路研发中心位于上海市张江高科技园区，建有300mm开放式集成电路先进关键工艺研发和装备材料试验平台，净化面积超过3000㎡，可实现硅片进出和工艺流程无缝衔接。ICRD 拥有硅刻蚀机、原子层薄膜生长 (ALD)设备、高能离子注入机等先进工艺设备，并于 2017 年购买了浸没式193nm 光刻机，用于开展先进工艺的研发。

上海集成电路研发中心拥有来自国际知名研发机构和跨国公司的研究人员，通过国内外产业合作的持续培养和锻炼，拥有了自主工艺技术的研发队伍；掌握了多个技术代的模块工艺并拥有知识产权；通过设立产业界共性技术研发项目，进行FinFET、FDSOI、纳米线晶体管等新器件和关键工艺的联合研发；建立了IP核设计和工艺整合能力，加快了芯片设计和制造的融合，开展了产学研合作，研发了 STT-MRAM、晶体管级3D堆叠、量子点传感器、类神经元晶体管等;在研发中心的工艺线上，为国产光刻机、刻蚀机、铜互连、光刻胶、大硅片等装备和材料提供工艺验证和评价意见。ICRD 通过不断完善设备设施条件，加强国际合作和知识产权的管理，逐步建设成为了集成电路人才实训基地，对全行业和高校开放。

ICRD 正在积极探索国际化道路，除了和 ASML 等跨国公司共建全球人才培训中心，与IMEC、ASML-Brion、Synopsys、应用材料、LAM 等跨国公司合作建立技术研发和人才培养实验室，还与麻省理工学院、加州大学等大学设立了共同研究项目。