目前面射型雷射广泛被应用在资通讯领域（information and communication technology，ICT），技术最为成熟的面射型雷射主要由三五族化合物半导体借由磊晶成长方式制作，所采用的基板包括磷化铟（InP）以及砷化镓（GaAs）等，但是近年来也有许多公司及研究团队投入大量资源研究以矽基板、锗基板或四族化合物半导体基板成长半导体雷射相关研究，但是目前尚未有成熟可靠的技术投入量产。依照用途不同面射型雷射大致可以区分为两大类，主要用在光通讯与光资讯。其中光通讯用途的面射型雷射，除了第一章提到的塑胶光纤以外，低损耗石英玻璃光纤采用的光发模组主动光源发光波长大多在红外光范围，主要集中在波长850nm、1310nm 以及1550nm，均采用砷化镓或磷化铟基板制作，915nm、940nm 和980nm、1064nm 波段也经常被用来制作高功率面射型雷射作为倍频雷射或光纤雷射激发光源。主要原因在于目前光纤通讯所采用的玻璃光纤在这些红外光波段具有最低的损耗，如下图6-1 所示为目前所采用玻璃光纤中传输的光源波长对衰减系数的关系，可以观察到最低损耗出现在1310nm 与1550nm，因此可以不用中继放大器即可传输较远距离，并且在 850nm 波段也有相对较低的衰减率。而可见光波段的面射型雷射主要应用领域为光资讯，包含光储存、显示与扫瞄列印。主要原因在于可见光波长较短，应用在光储存与扫瞄列印用途可以获得更高的储存密度与解析度，若要应用在显示用途则可见光就成为不可避免的唯一选择了。