nm为nano-meter，代表10的负九次方。

此外，为了得到更高的解析度，也就是要使经验常数尽可能地小，而在“超解析度计数”上投入不少功夫。在步进机上追加有光罩扫描功能的曝光装置，称为“扫描器（scanner）”。在实际应用中，最先进的黄光微影，即是使用这种扫描器式的曝光机。扫描器式的曝光机不使用全面式的镜片，而仅使用条状部分来进行扫描，故拥有较大的曝光面积、并且较少因镜片像差造成影响。

⑤显影

完成曝光制程的晶圆，将进行称为曝光后烘烤（PEB:post exposurebake）的轻度热处理。这是为了减少曝光时驻波的影响，使图案边缘锐利化，并使化学放大型光阻的产酸反应加速进行。