​启闳半导体科技(江苏)有限公司QiHong Semicon TECHNOLOGY (JIANGSU) CO.,LTD

电子邮箱  
密码      忘记密码?
  注册
纳米压印光刻NIL
来源:整理综合自《集成电路产业全书》 | 作者:Belle | 发布时间: 2022-03-27 | 344 次浏览 | 分享到:

盖的金刻蚀掉。


M-NIL技术的优点是快速、廉价,不需要超净环境,对表面的平整度也没有严格的要求,还能适合多种不同的材料表面。该技术的缺点是受到湿法刻蚀技术的限制,使印出的图形变宽,这只能通过优化工艺参数,包括优化模具上的试剂量及分布,来控制扩散带来的负面效应。