77K温度下实现电激发光连续波操作的纪录［64］，随后在2008底日亚化学也成功达成室温下电激发光连续波操作的成果［65］，详细的氮化镓蓝光面射型雷射结构设计考量与应用将在第七章更详尽介绍。

本书第二章起将从半导体雷射操作原理开始介绍，让读者建立雷射理论相关基础后，第三章再针对面射型雷射结构中最关键的分布布拉格反射镜原理与设计考量、元件操作特性、温度效应、微共振腔效应以及载子与光学局限结构差异进行介绍，让读者对面射型雷射的特性有一个初步认识。在第四章中深入介绍面射型雷射的动态操作特性包含小信号响应、大信号响应、线宽增强因子以及相对强度杂讯等特性分析。第五章将介绍目前最广泛应用的砷化镓系列材料面射型雷射制程技术，包含不同电流局限方法的差异、常见制程步骤使用之设备与参数介绍，特别着重于目前技术主流之选择性氧化局限制程。第六章将探讨于红外光面射型雷射操作特性，包含高频操作与单横模操作特性，并介绍长波长（发光波长大于1微米）发光材料之选择以及采用高应变量子井结构与量子点结构作为发光层之研究成果，以及红外光面射型雷射在光通讯、光资讯以及感测技术上的应用。第七章将介绍采用氮化镓系列材料制作短波长（发光波长小于600nm）面射型雷射之最新进展以及相关应用及发展趋势。