（3）支持矩形、多边形、路径等基本图形的创建、缩放、拉伸等。

（4）采用参数化单元（Parameterized Cell)，减少重复输入。

随着集成电路设计方法学的发展，对版图编辑工具的要求也越来越高，主要体现在以下方面。

（1）与电路图的交互，由此产生了电路图驱动版图（Schematic-Driven Layout,SDL）和约束驱动版图（Constraint Driven Layout,CDL）两项技术。

（2）模拟和数字集成电路的融合，衍生出模拟电路的自动布局和自动布线技术。

（3）设计规模的急剧膨胀对工具效率提出更高要求，催生快速显示、多线程查询等技术。

（4）工艺技术的发展需要新的版图编辑技术，例如鳍式场效应晶体管（FinFET）的设计需要多格点对齐技术等。