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1nm攻坚战打响
来源:半导体行业观察 | 作者:畅秋 | 发布时间: 2021-05-21 | 711 次浏览 | 分享到:

1nm印刷使用的是STEM(扫描投射电子显微镜),被隔开11nm,这样一来每平方毫米就能实现1万亿个特征点(features)的密度。不过,实验室研发的技术并不代表能很快商业化,布鲁克海文实验室的1nm工艺跟目前的光刻工艺有很多不同,比如使用的是电子束而非激光光刻,所用的材料也不是硅基半导体而是PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)。


结语


从实验室到产线量产,1nm制程工艺需要攻克晶体管架构、半导体材料,以及制造设备等几道难关。从3nm和2nm的发展和量产节奏来看,或许到2025年,市场上就会出现1nm制程的样片了。